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04.11.2025, 10:01
Vom Tellerwäscher zum Millionär – diese Redewendung passt auch sehr gut zum Werdegang des Chipausrüsters ASML. Aus einer improvisierten Werkstatt in einem undichten Schuppen wurde der Konzern zum weltweit unangefochtenen Marktführer mit modernsten Produktionsstätten. Der Name ist dabei Programm. Eine Zeitreise!
Nach der Gründung im Jahr 1984 startete ASML zunächst als kleines Joint Venture von Philips und ASM International, um Lithografiesysteme für den wachsenden Halbleitermarkt zu entwickeln. 1995 folgte der Börsengang in Amsterdam und später an der US-Technologiebörse Nasdaq. In den folgenden Jahren investierte das Unternehmen kontinuierlich in den Ausbau seiner technologischen Führungsposition.
Ein entscheidender Meilenstein gelang 2019 – Philips hatte sich inzwischen von seinen Anteilen getrennt – mit der Einführung der EUV-Technologie (Extreme Ultraviolet Lithography). Damit wurde die ASML-Technologie zum industriellen Standard: Erstmals war es möglich, Strukturen unter sieben Nanometern (nm) wirtschaftlich und reproduzierbar zu fertigen.
ASML steht für Advanced Semiconductor Materials Lithography – modernste Lithografiesysteme für die Halbleiterfertigung. Derzeit erzielt das Unternehmen zwar noch knapp die Hälfte seiner Erlöse mit den sogenannten ArF-Immersion-DUV-Systemen, die mit tiefem ultraviolettem Licht (Deep Ultraviolet) bei einer Wellenlänge von 193 nm arbeiten. Sie gelten als die Arbeitspferde der Halbleiterindustrie für Strukturgrößen zwischen 7 und 28 nm – und kommen in zahlreichen Prozessoren, Speicherchips und Automobilhalbleitern zum Einsatz.
Je kürzer die Wellenlänge, desto feinere Strukturen können belichtet werden. Die EUV-Technologie arbeitet mit einer Wellenlänge von nur 13,5 nm und ermöglicht Strukturgrößen bis zu zwei nm. Damit lassen sich High-End-Prozessoren und GPUs fertigen – ein Schlüssel für künftige Halbleitergenerationen und die Weiterentwicklung von KI-Anwendungen.
Doch damit nicht genug: Mit der neuen High-NA-EUV-Technologie sichert sich ASML seine technologische Führungsrolle. Die „High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet Lithography“ nutzt dieselbe EUV-Wellenlänge wie bisher, erreicht aber durch eine vergrößerte numerische Apertur (0,55 statt 0,33) eine deutlich höhere Auflösung. Dadurch können noch feinere Strukturen in einem einzigen Belichtungsschritt erzeugt werden – ein entscheidender Schritt für die Post-2-nm-Ära.
Auch diese Zeitreise zeigt: ASML ist ein unverzichtbarer Schlüsselakteur der globalen Chipindustrie. Der niederländische Konzern verfügt über eine technologische Monopolstellung, die Margen und Bewertungsaussichten stärkt. Die Aktie dürfte – auch vor dem Hintergrund des anhaltenden KI-Booms – ihren Aufwärtstrend fortsetzen, wenn auch mit gesunden Zwischenkorrekturen. Die nächsten Wasserstandsmeldungen zur operativen Entwicklung werden Ende Januar 2026 erwartet, wenn der Konzern mit dem Jahresabschluss einen Ausblick auf die kommenden Quartale geben will.
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