Kurz vor den Zahlen am Mittwoch gibt ASML einen Einblick in die technologische Zukunft: Die Niederländer planen bereits die nächste Generation von Chipmaschinen. Hyper-NA-EUV soll als Nachfolger von High-NA-EUV die Grenzen des Machbaren in der Fertigung modernster Mikrochips weiter verschieben und ASMLs ohnehin riesigen Vorsprung noch vergrößern. An der Börse zählt jetzt: Was liefern die Q3-Zahlen und welche Hürde muss die Aktie auf dem Weg zum Rekordhoch noch nehmen?
Die Ingenieure von ASML und Zeiss, Lieferant der hochpräzisen Optiksysteme für die EUV-Maschinen, skizzierten am Donnerstag den nächsten großen Technologiesprung. In einer Fachveröffentlichung beschreiben sie Hyper-NA-EUV als mögliche Weiterentwicklung der High-NA-EUV-Technologie.
Der entscheidende Fortschritt steckt in der Optik: Die numerische Apertur soll von derzeit 0,55 auf mindestens 0,75 steigen. Dadurch kann das System Licht aus einem größeren Winkelbereich einfangen und noch feinere Strukturen auf die Wafer übertragen. Während klassische EUV-Anlagen auf 13 Nanometer und High-NA-Anlagen auf 8 Nanometer kommen, sollen sich mit Hyper-NA-Systemen perspektivisch Schaltkreisstrukturen von nur fünf Nanometern abbilden lassen. Damit ließen sich künftig noch mehr Transistoren auf gleicher Fläche unterbringen.
Wie Reuters berichtete, sehen ASML und Zeiss die Technik in zehn Jahren einsatzbereit. Die Entwicklung läuft bereits, zur Serienproduktion entsprechender Maschinen hat sich ASML bislang aber noch nicht verpflichtet. Ein großer Teil der bestehenden Technologie soll weiterverwendet werden können. Als weltweit einziger Anbieter von EUV-Lithografiesystemen ist ASML bei dieser Spitzentechnologie längst gesetzt. Mit Hyper-NA-EUV könnten die Niederländer ihren Vorsprung ausweiten und den technologischen Burggraben noch einmal verbreitern.
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